삼성전자가 업계 최초로 HBM3E 12H D램을 개발 하였다고 공식 발표했습니다.
해당 칩은 TSV 기술로 12단 적층을 적용하여 업계 최대 용량인 36GB를 구현하였습니다.
초당 1280GB의 대역폭을 제공 바로 전 세대인 HBM3 8H(8단)대비 50% 이상 개선되었습니다.
해당 칩에는 Advanced TC NCF'(Thermal Compression Non Conductive Film, 열압착 비전도성 접착 필름) 기술이 적용되어
8H 제품과 동일 높이로 HBM 규격을 만족 시켰습니다.
해당 기술을 사용하면 칩 두께를 얇게 하면서 휘어짐 형상을 최소화 할수 있습니다.
두께 또한 낮추면서 칩간 간격을 업계 최소 간격인 7 마이크로 미터를 구현했습니다.
해당 제품은 이미 일부 고객사들에게 전달 되었으며 올 상반기 양산 예정입니다
출처 :https://www.clien.net/service/board/news/18609033?od=T31&po=0&category=0&groupCd=