ASML, 인텔에 첫 High-NA 노광 장비 출하

네덜란드 반도체 장비 제조업체 ASML은 최신 High-NA EUV 노광장비를 인텔에 출하한다고 밝혔다.

1대 당 3억 달러가 넘어가는 High-NA EUV 노광장비는 첨단 반도체 제조, 특히 3nm 이하의 첨단 공정에서 핵심이 되는 생산 장비입니다.

ASML은 성명을 통해 “ASML 최초의 High-NA EUV 장비를 인텔에 제공하게 되어 기쁘다”고 밝혔습니다.

이번에 출하된 High-NA EUV 노광 장비는 인텔 오레곤 팹에서 사용될 것으로 알려졌습니다. 인텔은 이 장비를 이용해 Intel 18A 공정에 박차를 가할 것으로 보입니다.

첨단 반도체 생산을 위한 파운드리 미세 공정 경쟁이 심화되면서 2nm 공정의 핵심 중 하나로 여겨진 High-NA 노광장비를 TSMC나 삼성이 아닌 인텔이 먼저 제공 받게 되었습니다. 이를 통해 삼성과 TSMC 대비 인텔이 전략적 우위를 점할 가능성이 있씁니다.

TSMC와 삼성 파운드리도 ASML로부터 이 High-NA 노광 장비를 확보하기 위해 총력을 기울이고 있습니다.